Home > News & Agenda > News archive > Arie den Boef nieuwe bijzonder hoogleraar Metrologie en Nanolithografie
News archive
10/14/2016

Arie den Boef nieuwe bijzonder hoogleraar Metrologie en Nanolithografie

Het College van Bestuur van de VU benoemt Arie den Boef per 1 oktober 2016 tot bijzonder hoogleraar Metrologie en Nanolithografie.

Dit bijzonder hoogleraarschap valt onder de groep Atoms, Molecules and Lasers van de afdeling Natuurkunde. De benoeming is voor één dag per week, voor een periode van vijf jaar. Arie den Boef werkt als onderzoeker bij chipmachinefabrikant ASML. De nieuwe leerstoel bouwt voort op de betrokkenheid van de VU bij het Advanced Research Center for Nanolithography (ARCNL), een samenwerkingsverband tussen ASML, de VU en UvA, en FOM (NWO).

Den Boef heeft een sterk onderzoekprofiel op het gebied van metrologische technieken, gekoppeld aan nanolithografie, en expertise op het gebied van interferometrische technieken en microscopie. Metrologische technieken en instrumentatie zijn bij uitstek van belang bij het produceren van kleine structuren via lithografische procedés. Metrologische technieken zijn erop gericht om op nanoschaal onder andere vorm en positie van patronen te bepalen en te karakteriseren na diverse processtappen zoals etsen.

CV
Arie den Boef behaalde in 1985 zijn ingenieursdiploma Elektrotechniek aan de hts in Eindhoven. Hij promoveerde in 1991 cum laude aan de Universiteit Twente (Natuurkunde) op het proefschrift ‘Scanning Force Microscopy using Optical Interferometry’. Den Boef werkte jarenlang bij Philips en sinds 1997 bij ASML.

 

English

 

© Copyright VU University Amsterdam

spamfuik@vu.nl